半導體芯片用超純水系統
【南京純水設備】半導體芯片用超純水系統
芯片超純水系統是為半導體制造提供高純度水的設備，最新工藝主要包括預處理、反滲透、去離子處理、拋光處理等步驟，確保水質(zhì)達到18.2MΩ*cm以上的超純水標準，以滿(mǎn)足精密科學(xué)實(shí)驗和工業(yè)應用的需求。
1、預處理階段
多介質(zhì)過(guò)濾：去除大顆粒懸浮物。
活性炭過(guò)濾：吸附有機物和余氯，防止對反滲透膜的損害。
軟化處理：去除鈣鎂離子，防止膜元件結垢。
2、反滲透階段
雙級反滲透：有效去除溶解鹽和有機物，確保水質(zhì)達到EDI模塊進(jìn)水標準。
3、去離子處理階段
EDI技術(shù)：無(wú)須酸堿再生，環(huán)保且連續穩定產(chǎn)水。
混床離子交換：進(jìn)一步去除離子，提高水質(zhì)純度。
4、拋光處理階段
紫外線(xiàn)氧化：分解有機物，降低TOC含量。
5、配送與循環(huán)
采用閉環(huán)循環(huán)系統，防止水質(zhì)污染，確保超純水穩定供應。
6、廢水處理與回用
對半導體制造產(chǎn)生的廢水進(jìn)行多級處理，實(shí)現高效、經(jīng)濟的處理，提高水資源利用率。
7、系統優(yōu)勢
采用EDI技術(shù)，無(wú)須酸堿再生，保護環(huán)境。
產(chǎn)水過(guò)程穩定連續，無(wú)復雜操作程序，降低安裝和維護要求。
配備智能監控系統，實(shí)時(shí)監控設備運行狀態(tài)和水質(zhì)參數，實(shí)現遠程管理。
超純水系統為芯片生產(chǎn)提供必要的水質(zhì)保障，影響芯片良率和性能，是半導體制造不可或缺的環(huán)節。南京反滲透純水設備 南京EDI超純水處理設備 南京工業(yè)純水設備 南京實(shí)驗室超純水設備 南京醫藥純化水設備 南京去離子水處理設備
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